第120章 1nm光刻机首测成功，震撼全场！(1/4)

首发：~第120章 1nm光刻机首测成功，震撼全场！

全员换上无尘工作服，经过三道安检进入偌大的实验室。

见到一台庞然大物，市委书记、市长、副市长等市领导同时愣住，安若素也是睫毛一颤。

安若素平时很少来鹏城大学，只有周末过来找老公，并未见过光刻机成品，此时指着大型设备激动道：“老公…这…这就是你研发的光刻机吗？”

“对。”

苏云杉向市领导介绍：“各位领导，这就是由皇甫集团和鹏城大学联合研制的HighNAEUV光刻机，机身尺寸10米x5米x4米，整机重量约150吨，按照设计要求，可以量产1nm及以上制程芯片，实验室可试产0.5nm芯片。”

哗——

全场领导大惊！

看着光刻机怔怔出神。

皇甫君昨晚来过，见过总装整机，此时再见，依然觉得震撼，光刻机通体哑光银灰，轮廓方正厚重，如同集装箱稳稳地扎在环氧地坪上。

苏云杉走近介绍：“这台设备是国内首台数值孔径0.55的HighNA极紫外光刻机，相较于国外传统0.33NAEUV光刻机，可大幅提升分辨率，打印8nm密集线条，突破芯片制造密度记录，这也是它能够突破1nm制程壁垒的核心关键。”

皇甫君母女三人、市领导、校领导跟在他身后，近距离观摩，更能直观地感受到它的精密和磅礴。

苏云杉摸着冰凉的机身继续介绍——

“整机采用一体化真空密封舱体设计，外壳是特制航空级碳化硅材质，抗形变、耐高温、耐腐蚀，表面哑光涂层经过百级无尘抛光处理，不沾微尘、极致平整，杜绝任何细微光线散射干扰。”

“设备搭载自研13.5nm波长高能脉冲等离子光源，最大功率突破350W，光源稳定性和光斑均匀性，均达到国际领先标准，彻底解决了传统EUV光源功耗高、续航短、光斑偏差的缺陷。”

苏云杉抬手指着设备核心光学区域，继续细致讲解。

“核心反射镜组为七层超高精度镀膜镜片，经过原子级抛光工艺处理，面形精度误差控制在0.05λ以内，表面粗糙度不足0.1纳米，相当于单个原子直径级别，可实现极致精准的光线反射和聚焦。”

啥啥啥……

说得是个啥……

安若素和安无恙姐妹俩听得一头雾水，但不明觉厉。

市委书记和市长此前做过国产光刻机的调研和考察工作，大概能听懂，来之前也做过功课，听到苏云杉报出的一组组参数，除了震惊还是震惊。