第430章 国产设备的惊喜(2/4)

首发：~第430章 国产设备的惊喜

它用的是开环加软件补偿，机械精度不占优势，但光斑功率密度分布可以手动拉宽，补偿曲线也能开放到工程师端，屏幕上每一个参数栏都能点进去改。

沈明轩盯着光斑功率密度分布的设置栏，手指停在触控屏边缘。

禁运公告发布后，他这几天一直在看同一个问题，如果日本设备再也进不来，光芯实验室不能一边骂禁运，一边继续按日本设备的工艺窗口找答案。

只能用国产设备。

那就在国产设备的可调范围里找最优解。

之前他们卡在零点八，是因为梯度刻蚀的侧壁粗糙度已经压到一个平台，继续用窄而尖的光斑去修饰侧壁，边缘热影响区会很不均匀，越往下调，损耗改善越小。

如果把光斑功率密度拉宽，用开环模式做更大的软件补偿，侧壁上形成的熔融层会更均匀，粗糙度也许能再往下。

沈明轩拿起记号笔，在白板上画了两条曲线。

一条窄而尖，是旧设备的光斑分布；一条宽而平，是华科样机能给出的分布。

工程师陈宇航站在旁边，看着那条宽曲线：“沈博，这样耦合效率会不会掉？”

“会掉一部分。”

沈明轩在宽曲线中段画了一个圈：“但我们不要最高耦合效率，我们要侧壁更均匀的能量分布，先试这个窗口。”

另一个工程师翻着工艺表：“那波导刻蚀后的热处理参数也要跟着改。”

沈明轩点头：“三项一起动：光斑宽度、功率密度、补偿曲线，其他参数不动。”

陈宇航看了眼旧记录：“这是新窗口，没有历史数据。”

沈明轩把记号笔扣上：“没有就跑出来。”

第一轮参数调整用了很久，华科精密的控制软件还带着早期样机的痕迹，有两个界面跳转不顺，一名工程师把问题记进联调清单，另一名工程师在控制台旁手动复核输入值。

沈明轩没有催，他站在设备旁边，看着光源模块稳定下来，屏幕上的功率曲线从上下抖动慢慢收窄。

样片被放入测试位，国产光源耦合设备启动，光信号进入波导，测试平台开始采集数据。

屏幕上的衰减值先是不断跳动，从零点九附近往下压，又在零点七附近来回浮动，操作工程师没敢抬头，手指停在键盘旁边。

等数据稳定后，屏幕上显示出一行结果。

光损耗，零点六五分贝每厘米。

操作工程师盯着那行字看了一会儿，又打开原始采样文件核对了一遍，他把曲线放大，确认没有采样断点，才转头叫人。

“沈博，你看这个数字。”

沈明轩走过去，弯腰看屏幕，眼镜片上反着蓝色光，他没有碰鼠标，只看着那条从零点八往下跳的曲线。