第138章 震惊的国际友人，是真的，都是真的！(3/4)

首发：~第138章 震惊的国际友人，是真的，都是真的！

瑞安插嘴，“ASMLCEO都说中国人连193nm光源都没有，光刻机？怕是PPT造的吧！”

林哲沉默了一下。

感觉有些不舒服。

但是，想想也无可厚非。

国内的大环境的确是这样的。

米勒耸耸肩，戴上防静电手套：“行吧，按流程走一遍。反正客户付了加急费，咱们就当看个笑话。”

他熟练地剥离封装，取出那颗标注“PMIC-HD38”的电源管理芯片，放入聚焦离子束设备。

“先切个横截面，看看是不是多重曝光拼的……”

屏幕亮起，纳米级剖面图像缓缓生成。

起初，米勒还漫不经心地敲着桌面。

可三分钟后，他动作僵住了。

“这……这不对……”他凑近屏幕，瞳孔骤缩。

林哲察觉异样，走过来瞥了一眼，笑容瞬间凝固。

屏幕上，多层铜互连结构清晰如画，介电层均匀致密，栅极侧墙轮廓锐利如刀锋——这绝非65nm或90nm工艺能伪造的细节。

“液膜边缘效应……”

林哲声音发颤，“这是浸没式光刻独有的特征！水浸界面导致的折射畸变……只有真实曝光才会留下这种痕迹！”

米勒猛地调出线宽测量工具。

38.2nm。±1.1nm。

“上帝啊……”他喃喃道，“这不是演示片……这是量产良品。良率至少90%以上，否则不可能装进市售手机！”

瑞安也挤过来，脸色煞白：“可……可他们半年前连DUV光刻机都没见过！怎么做到的？！”