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首发：~第422章改造成功，0.1纳米精度光刻机
“开始吧。”许锋说。
苏工按下了启动键，光刻机开始运作。
首次试制持续了将近三个小时，期间没有人说话，古工和苏工各自盯着自己负责的显示屏。
运动平台的位移数据在纳米级别上跳动，曝光光源的光强曲线平稳，光学系统的成像质量监测数据每隔几秒刷新一次，每一次都在公差带以内。
许锋站在两人身后，目光从一块屏幕移到另一块屏幕。
超级大脑在后台同步处理着所有子系统的实时数据流，每一个参数的波动都在他的感知范围之内。
终于，试制结束。
测试晶圆从光刻机里退出来的时候，苏工的手在控制面板上停了一下才按下确认键。
他拿起晶圆，送进旁边的检测工位。
扫描电子显微镜对准晶圆表面的第一片曝光区域。
图像清晰之后，车间里安静了很长时间。
古工第一个开口：“线宽精度二十五纳米。达到基础版设计指标。曝光均匀性合格。重复定位精度——合格。”
苏工没说话。
他站在检测屏幕前面，把同一片区域的检测图像反复对比了三遍。
三遍之后，他在检测报告上签了字，然后把签字笔放在桌上，靠进椅背里长长地出了一口气。
“二十五纳米，跟国际上最先进的比还有差距，但作为第一台自主制造的光刻机，已经是了不起的起点了。”苏工的声音里带着疲惫，也带着一丝不易察觉的遗憾。
许锋看了一眼检测报告上的关键数据。
曝光线宽、套刻精度、缺陷密度——每一项指标都达到了基础版图纸标注的设计要求，但也仅仅是达到。
二十五纳米，在军用芯片领域够用，但要做人工智能生命体的核心处理器，这个精度远远不够。
他拿起笔在报告的最后一页签了字，心里已经在盘算另一件事。
“古工、苏工，这阵子辛苦了。今天早点休息，后续的优化方案我来想办法。”
古工摘下老花镜揉了揉眼睛，这八周他几乎没睡过一个完整的觉：
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