第226章 徐总师你还懂这个(4/5)

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「多亏了徐总师，带领我们拿下极紫外光源，否则纵使再有两年时间，恐怕也解决不了光刻机的核心光源系统。」

「今早我看网上大家的评论，几乎全在支持徐总师。」

全程暂时充当听客的徐铭，看到潘耀主动聊自己，忙摆了摆手谦逊应声。

「关于极紫外光源的实验验证结果，能取得这么大突破也离不开大家，不过针对此次海外采取的措施，我们必须要重视起来才行。」

「针对国产EDA的开发，以及光刻胶研究，同样需要加快研发进程。」

徐铭早上便听说了这件事情，对于海外方面的反应速度也颇为意外，不过倒完全在预料范围之内。

毕竟海外连晶片和半导体设备都已限制，哪还用在意设计软体和光刻胶。

「这个确实要重视。」贺鹏涛闻言当即点头认可。

丁顺安则接话道：「EDA和光刻胶，都属于晶片制造产业链中，不可或缺的重要一环，如果这两项无法同步解决，就算我们成功研发出先进的极紫外光刻机，照样无法让其发挥出作用。」

徐铭因在等离激元耦合态理论上的设想，为获得稳定极紫外光源找到了新方法。

这才阴差阳错担任了总设计师。

所以最开始的目标，便是研发出极紫外光刻机。

但眼下面对当前的局势，以及两位院院士意见，不得不对后续任务安排进行调整。

「贺院和丁院说的没错。」

他先是对贺鹏涛和丁顺安的话表达了认可，接著又详细讲出自己的想法。

「目前我们已成功掌握，稳定50瓦极紫外光源，材料研究院那边正在研发多环结构光源靶盘，只要一就位随时可以开始针对250瓦商用功率展开详细验证，彻底解决极紫外光刻机的核心光源系统。」

「等到这一阶段的时候，对高端光刻机研发的压力也能小上很多。」

「至于国产EDA晶片设计软体的开发————」

「就由我来接手。」

在经过认真的考虑之后，徐铭把自己的下阶段目标放在了EDA开发上。

反正有了稳定功率的极紫外光源，针对国产光刻机的研发工作，有贺鹏涛和丁顺安两位经验丰富的院士，照样能平稳的往下推进。

并不会耽误项目进度。

而他相比较物理光源现象的研究，开发算法编写软体程序要更加适合，要知道在信息领域内他同样是专业的。

且拥有著丰富经验。

另外在这几个月的极紫外光源验证中，他的物理学科经验值又增长不少，转去开发EDA刚好还能获取到，新的信息学科的经验值。