第221章 面向世界宣布(2/6)

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这也是为什么，科学院会更改之前的研发模式。

将国内半导体设备资源进行整合。

有丁顺安和贺鹏涛两位院士的大力支持，相信工作进展都能快上许多。

于是几乎没怎么迟疑，连忙开口谦逊回应。

「我们工作就先从极紫外光源开始，不过关于其中涉及到的物理现象，还需要更加细致的进行推导，等理论工作足够成熟后再开展实验。」

毫无总设计师的架子。

他这话倒没乱讲，更不是故意拖延时间。

借助等离激元耦合态理论，提出一种全新的极紫外光源获取技术，本就是他猛然间意识到的设想，要不是昨天晚上海外突然签署那份半导体限制文件，导致国内面临高端晶片制造困境，这才被杨老临时拉来研讨会讲述，大概率还要深入研究一段时间，才会正式开展实验验证工作。

最大程度避免过多的试错成本。

贺鹏涛和丁顺安两人，虽心里面迫不及待，但毕竟都早已入选院士。

在丰富经验下，深知前期准备工作的重要性。

否则贸然开展实验，白白浪费时间精力不说，还有可能影响项目进展。

「那我们先进行实验准备，省的到时候耽误时间。」

最终微笑著丢出这句话，方转身暂时离开，回各自所在的光机所安排任务。

参加了整整一天的研讨会议，眼下终于结束，以他们的年龄相对来说还是比较疲惫的。

把这幕看在眼里的科学院院长余高远，待收回目光后也终于长松了口气。

决定让徐铭担任总设计师，部分原因是因为，徐铭本来就主导过重点项目，只不过大部分信息，都暂时处于未解密的状态不为人知。

刚开始他还天担心会有人提出不满，影响国产光刻机的研发进展。

现在看到连最有资格出任总设计师的，贺鹏涛以及丁顺安这两位院士，都对徐铭的工作如此支持迫不及待。

自然不会再忧虑什么。

心底里不得不感叹，这就是顶级天才的人格魅力吗？

余高远倒也没有在此事上纠结太多，很快回过神又像是突然想到什么，忙又看向身旁的徐铭主动搭话。