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首发：~第421章 谢威这是不准备过了？8亿砸激光跟纳
刘德宝把泡好的两杯茶递到两人面前，坐到一侧，见谢威苦笑，开口帮他解释：“目前芯片制造工艺卡着，咱们也在想办法，可这需要从最源头的硅晶圆提纯结晶到光刻、再到离子注入……而光刻机又涉及到光电技术等……”
黄先生看向刘德宝，让刘书记说不下去了。
“咳咳~”
谢威假装咳嗽，把对方的注意力吸引到自己身上，“两位，刘书记刚从首都回来，跟863联办进行了沟通，光刻机也属于863重点项目……”
“谢主任，这些官方的话，您就还是别说了吧。磐石1.0微机再不推向市场，到时候市场占有率将会进一步降低……目前咱们的微机，一年出货不足30台，还都都是靠着关系……”
倪总打断了谢威的解释。
863重点项目咋了？
国家能往这些项目上投入多少资金？
关键目前学校往相关领域的科研经费投入减少了很多。
“中科院半导所的JK-3型只有1微米精度，华清大学的分布式投影光刻机目前精度同样只有1微米，学校的就不说了，到目前只有2微米，还只能用于实验室……这几年因为高考人才跟经费等原因，我们跟这两单位的合作……”
谢威再次叹了口气。
早几年，他就有合作的想法。
奈何，谁主导就成了问题。
谁都不愿意由其他单位来主导，谢威更不想让其他单位主导——他提出的是采用极紫外光源作为光刻机的光源。
在全世界范围内，连深紫外（DUV）目前的研制都不是很多，主流的光源还是紫外光源（UV），也就是在哈工大，谢威作为隐形的话事人，才不会有人质疑。
中科院半导所跟华清大学等，根本就不鸟谢威——现在手里的研究成果都没法跟国外最前沿的比，一旦放弃，之前的研究就白费了。而谢威提出的极紫外光源，目前几乎没有什么基础——这是要利用准分子激光照在锡滴液发生器上，激发出13.5纳米的光源来作为光刻机的光源。
激光！
纳米！
这两种在目前全世界范围内，都属于绝对的前沿科技！
不仅需要更先进的检测系统，同样也需要精度更高的控制系统。
“谢主任，咱们要不先放弃极紫外光源？”
一直沉默的黄先生看着谢威的眼睛，轻声开口。
“极紫外光源的研究，是不可能放弃的！哪怕学校所有的项目全部停了，也不能放弃！”
谢威摇头。
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