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首发：~第413章 我们就差这张牌了！
其他专家固然没有办法从专业的角度听懂其中的难度，但光是凭借直觉就能明白这有多难了。
用一个拥有近乎无穷解空间的、典型的NP-hard问题，这些形容词和最后的名词，听起来就觉得困难。
近乎无穷解，在数学知识大约等于数学系大一大二学生的工业专家们看来，和近乎无法求解没有区别。
坐在魏哲边上的专家，看他的脸色也能看出端倪，看魏哲一副惊呆的样子，就知道林燃又做了什么惊天动地的结果出来。
梁孟松举手，林燃点了点头：“梁工，你说。”
“林总，”梁孟松的语气很沉重，“您从算法层面为我们提供了解决方案，现在我们从理论上能做到。
但是在现实世界中要到，我们需要有精度足够高的模板，有了这样的模板，我们才能用NIL光刻机去印所谓的超构透镜，才能拥有传统路线光刻机所需的镜头。
我解释一下，我们要制造的，是带有5纳米级别结构的超构透镜母版模板。
而要制造这个母版，我们需要一台电子束写入机。”
“这东西，就像一支笔。”梁孟松努力用最简单的语言解释，“光刻机，像一台巨大的印刷机，可以把模板上的图案，一秒钟复印几十次。
而电子束写入机，就是那支用来制作印刷母版的、最原始的笔。
你的笔有多细，决定了你的母版有多精细。
而我们，我们国产的、最先进的电子束写入机，能稳定刻画的最小线宽，是65纳米。
用65纳米的笔，去雕刻5纳米的图案，这是不可能的。”
多电子束写入机是一种用于高精度图案转移的先进半导体制造设备，通过使用多个电子束同时在晶圆上写入图案。
梁孟松说的更常见一点的名词叫掩膜版，光透过掩膜版在硅片上印上图案，掩膜版的精度决定了硅片上集成电路的精度。
用来制作掩膜版的机器就叫多电子束写入机，它一次只能制作一块掩膜版，适用于小批量、高复杂性的图案制造需求。
总结来说，没有最先进的电子束写入机，就无法制造出用于生产最先进芯片的掩膜版。
它是整个半导体制造产业链的“源头”，其战略重要性，丝毫不亚于EUV光刻机本身。
全球最先进的、用于EUV级别的多电子束掩膜写入机，其市场被奥地利的IMSNanofabrication公司，现已被英特尔绝对控股。
另一家霓虹公司NuFlareTechnology也在研发，但市场份额和技术应用广度上都有差距，这是东芝的子公司。
国内的申海微电子旗下也有子公司在负责研发，但精度是90nm到65nm之间。
无论是哪个技术路线的光刻机，都需要有掩膜版，在母版上面去印刷。
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